TJ硬掩膜激光加工非金屬掩膜版精密切割微結(jié)構(gòu)定制

華諾激光是一家專業(yè)致力于研發(fā)、生產(chǎn)和加工激光打孔、激光切割、激光焊接等高新技術(shù)企業(yè)。公司座落在于北京玉泉營，并在天津設(shè)立分公司，華諾激光擁有現(xiàn)代化生產(chǎn)基地，公司秉承“求實(shí)、求新、求質(zhì)、求效”的企業(yè)精神，吸收了大批“德才兼?zhèn)洹比耸繛槠髽I(yè)之用。

掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。

掩膜版的應(yīng)用

每個(gè)芯片上的實(shí)際電路結(jié)構(gòu)是用掩模版和光刻技術(shù)制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外線吸收材料制作的。光敏層即光刻膠被預(yù)先噴到半導(dǎo)體表面。

掩模和光刻工藝是很關(guān)鍵的，因?yàn)樗麄儧Q定著器件的極限尺寸。除了紫外線，電子束和X射線也能用來對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光 。

掩模版的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機(jī)中，掩模版作為一個(gè)光學(xué)元件位于會(huì)聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模版上的圖形縮小4~10倍（現(xiàn)代光刻機(jī)一般都是縮小4倍）后投射在晶圓表面。為了區(qū)別于接觸式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又稱為倍縮式掩模（reticle）  。